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20 多年高質量XUV、EUV和X射線反射鏡
NTT的FZP由干法蝕刻的Ta組成。具有出色的高耐X射線輻射性、分辨率和對比度高
適用于X射線分析的分辨率評估
X-ray應用氮化硅薄膜窗口